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半导体测试设备

简介:

产品详情

产地:美国

型号:MProbe;

 

通过光反射干涉的原理测量薄膜的厚度是一种快速、无损、精确、且可同时测量多层薄膜厚度的薄膜厚度测量技术。我司的该款光学薄膜测厚仪是一款价格低廉、功能强大的膜厚测量仪器。该产品的全球销量超过了200台。

根据型号不同,测量范围可以从1nm1000um。该产品可应用于在线膜厚测量、测氧化物、SiNx、感光保护膜和半导体膜;也可以用来测量镀在钢、铝、铜、陶瓷和塑料等上的粗糙膜层。

 

应用领域:

非晶多晶硅;

多孔硅;

硅晶圆薄膜;

- CMP;

电介质;

玻璃和塑料厚度;

硬质涂层厚度;

- IC故障分析;

铟锡氧化物与透明导电薄膜;

金属厚度测量;

- Oled

光刻胶;

制程薄膜;

折射率,消光系数;

光伏太阳能电池;

卷式涂层;

半导体教学实验;

等等…

 

技术规格特点:

波长范围:200nm~1700nm

膜厚范围:1nm~1mm

光斑尺寸:3mm~3um

精度:<0.01nm0.01%

准确度:<0.2%1nm

稳定性:<0.02nm0.03%

实时测量:厚度,吸收系数,折射率,粗糙度等;

开放的数据库:超过500种材料,新材料可添加;

灵活性:台式离线测量,原位测量,在线测量;

等等...

 

参考用户:

北京科技大学、上海交通大学、香港城市大学等.

 

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