简介：

光刻机

产品详情

光刻机 / 紫外曝光机  Mask Aligner

产地：美国, 韩国;

型号：M 200, M-150;

 

技术规格：

1)  样品台

     X/Y移动范围：+/-10mm ;

     Z移动范围：1500um ;

 千分尺：0.001”, 0.0001” ;

 旋转：+/-3.5° ;

2)   模板尺寸：最大9” X 9” ;

3)   光源尺寸：最大8” X 8” ;

4)   光源功率

  紫外：200W, 350W, 500W, 1000W, 2000W ;

  深紫外：500W, 1000W, 2000W ;

5)   曝光时间调节器：1 ~ 999秒(精度1秒)，0.1 ~ 99.0秒(精度0.1秒)；

6)   尺寸：高度(940mm) X 宽度(788mm) X 深度(635mm)；重量：250磅；

 

仪器特点：

1）  模板夹具、衬底夹具，易于更换；

2）  对准精度：优于1um；

3）  选配的背面光刻对准精度：3-5um；

4）  紫外光源波长可快速改变；

5）  曝光强度控制精度：+/-2%；

6）  可以选配纳米压印模块(NIL)；

7）  可以选配微流控模块；

 

应用领域：

1）  MEMS ;

2）  纳米压印(NIL) ;

3）  微流控(Microfluidics);

4）  纳米技术；

5）  II-VI及III-V半导体器件制造；

6）  光刻工艺；

7）  LCD及FED显示；

8）  MCM’s ;

9）  薄膜器件；

10）太阳能电池；

11） SAW器件；

 

参考用户：

广东工业大学等..

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