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半导体工艺设备

简介:

HARRICK PLASMA等离子清洗机

产品详情

产地:美国HARRICK PLASMA

型号:PDC-32G-2PDC-002PDC-002-HP

 

等离子表面处理机采用气体作为清洗介质,短时间的清洗就可以使有机污染物被彻底地清洗掉,同时污染物被真空泵抽走,其清洗程度达到分子级。在特定条件下还可根据需要改变某些材料表面的性能。等离子体作用于材料表面,使表面分子的化学键发生重组,形成新的表面特性。等离子清洗器广泛应用于光学、光电子学、电子学、材料科学、生命科学、高分子科学、生物医学、微观流体学等领域。

 

技术规格特点:

腔体尺寸:3英寸(直径)X6.5英寸(长度),6英寸(直径)X6.5英寸(长度);

最大功率选择:18W30W45W

功率调节档:具有低、中、高档可调节功能;

腔体:石英腔体,不同尺寸的箱式腔室可选;

泵:机械泵、干泵,供客户选择;

腔门:腔门配有观察窗,并可以拆卸;

气体混合模块:最多可以2路气体混合,流量计精准控制;同时可以测量腔体的压力和温度。

参考用户:

浙江大学、中国科技大学、人民大学、北京航空航天大学、北京科技大学、吉林大学、上海大学、青岛科技大学、中科院上海应用物理研究所、中科院福建物构所等.

 

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